钇稳定氧化锆陶瓷烧结温度探讨

钇稳定氧化锆陶瓷是四方多晶体氧化锆材料，这种材料的晶粒很小，为了使亚稳的四方相保存下俩，必须采用超细高纯的氧化锆粉体，并且要准确控制氧化钇的含量，烧结工艺要采用低的温度1400℃。

钇稳定四方氧化锆陶瓷通过相变增韧具有很高的强度和断裂韧性，但在中高温下由于相变增韧的作用逐渐消失，力学性能会迅速下降，在四方氧化锆晶体中加入第二相粒子成为符合材料，是提高TZP韧性和高温力学性能的有效方法。

钇稳定四方多晶体氧化锆陶瓷具有高强度，高断裂韧性，高耐磨等优良的机械性能，但在200-300℃下即产生强度退化的现象，这主要优异四方到单斜的转化，而早晨大量的微小裂纹所致。四方-单斜随温度变化可以引起相变外，与四方相的颗粒大小也密切相关，随着颗粒变小，相变强度也随之降低，颗粒大小低于一定温度，温度即使降低至室温或更低温度以下也不会改变。

所以，为了防止这种相变的发生，只有减少颗粒尺寸才能保持TZP的高性能。钇稳定氧化锆双晶粒的尺寸必须小于1微米，对于单TZP的晶粒一般控制在6-9微米。

随着工艺的不同，TZP的强度也不同，钇稳定氧化锆通常采用热压，干压和等静压烧结三种工艺，他的室温抗弯强度分别是1000-1300MPa,1500-1700MPa和2500MPa。

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